春寒料峭，在全國人民抗擊新冠病毒肺炎疫情攻堅之時，新疆衆和一手抓疫情防控，一手抓生產經營，處於關鍵階段的超高純鋁濺射靶基材的攻關，一刻也沒有停。
2月20日，在工程技術研究所超高純鋁濺射靶基材項目的車間，技術主管徐工戴着口罩來回穿梭查看生產情況。“徐工，（靶材）客戶的訂單備貨情況怎麼樣？今天能不能發出去？這可是批量供貨！”工程技術研究所負責人急切地問，“訂單產品已全部檢測合格！今天一定發出去！”徐工查看着現場的一批靶基材鑄棒，堅定地回答。
徐工的信心源自於新疆衆和自主開發的超高純鋁濺射靶基材產品的工藝技術和產品質量。
超高純鋁濺射靶基材研發，新疆衆和經歷了無數次失敗和總結探索，才成功打通“最後一公裏”，開發出全套生產工藝和技術，獨立於歐洲海德魯和日本住友化學體系外的第三條完整產業鏈，產品不僅全面符合市場要求，通過多方驗證，並成功實現了批量供貨！
瓶頸：超高純金屬材料讓半導體行業“芯”痛？
高純濺射靶材是伴隨着半導體工業的發展而興起的，集成電路產業成爲目前高純濺射靶材的主要應用領域之一，半導體靶材爲制備集成電路的關鍵原材料，也是技術要求最高的靶材，要求靶材超高純度金屬、高精度尺寸、高集成度，其技術含量高，產品質量、性能指標直接決定了靶材的品質和穩定性，最終影響半導體生產。因此把半導體用靶材基材制備是材料制備工業王冠上明珠也不過譽。
公司科研人員正在進行產品性能檢測
靶材制造產業鏈中主要環節爲“金屬再提純—高純金屬合金化—基材制備加工—靶材綁定復合—濺射鍍膜—終端應用”，高純度乃至超高純度的金屬材料是生產高純濺射靶材的關鍵，以半導體芯片用濺射靶材爲例，若濺射靶材雜質含量過高，則形成的薄膜無法達到使用所要求的電性能，並且在濺射過程中易在晶圓上形成缺陷，導致電路短路或損壞，嚴重影響薄膜的性能。
中國雖然擁有鋁基生產濺射靶材所需的各種基礎礦源，但金屬提純技術主要由美國、日本、挪威、法國等國掌握，長期以來，國內靶材廠商主要通過從國外進口獲得高純金屬及基材供應，每年達數千噸，價格較高且不能及時交貨。
超高純鋁濺射靶基材缺陷檢測
由於國際間的技術壁壘，我國超高純鋁制備工藝技術的研發進步緩慢，同時靶材企業由於擔心原料安全問題，不敢嘗試國內企業研發的產品，如此惡性循環，進一步阻礙了相應國內產業體系的進步。
因此，客戶對新疆衆和的選擇和青睞有深層原因：以往國內半導體產業盡管鋁制靶、芯片制造等部分環節實現了獨立自主，但鋁靶的關鍵原材料嚴重依賴國外，高價向國外購買。此外，客戶還面臨着國外供應商難以保證及時交貨的尷尬局面。新疆衆和的超高純鋁靶基材訂單產品工藝和技術，全面緩解了他們的焦慮。
出路：新疆衆和打破國外技術壟斷，
爲中國“芯”保駕護航！
新疆衆和作爲我國鋁電子新材料研制企業，是國內最早規模開發、生產高純鋁的企業，積累了30餘年的高純鋁研發生產經驗，擁有全球最大的高純鋁生產基地。盡管如此，但是在開發超高純鋁金屬靶基材訂單產品一波三折，一是面臨國外技術封鎖，二是國內沒有相應的技術基礎，一切都要從零開始。對此，新疆衆和開始了十餘年的超高純鋁濺射靶基材研發之路。盡管研制歷程困難重重，但在公司上下的全力支持下，科研人員決心破釜沉舟，十年磨一劍，堅持了下來。
超高純鋁濺射靶基材
強強聯合。新疆衆和通過與集成電路相關企業承擔國家專項項目聯合研發，包括北京有色金屬研究總院、寧波江豐電子材料股份有限公司等企事業單位、科研院所、高等院校共同承擔國家科技重大專項“極大規模集成電路制造設備及成套工藝”等，加強上下遊企業技術合作，完成了實驗室工藝摸索。
中試積累。新疆衆和果斷決定建設超高純鋁濺射靶基材中試工廠，相繼克服了超高純鋁（5N5）規模生產過程中雜質元素污染、產品表面質量及內部晶粒組織細化控制、氫含量必須小於0.1ppm、晶粒取向控制等一系列難題，最終打通了超高純鋁濺射靶基材的工藝技術，成爲國內唯一一家可以規模生產超高純鋁濺射靶基材企業，鋁純度可達到99.9995%（5N5）。同時，新疆衆和、東北大學聯合申報的“潔淨、細晶5N5超高純鋁的制備關鍵技術及應用”項目還榮獲2019年中國有色金屬工業科學技術獎一等獎。
展望：新材料、新技術，中國“芯”未來可期
隨着全球晶圓制造廠產能逐步轉移至中國，疊加5G智能設備更新，驅動半導體需求進一步釋放。超高純鋁靶材作爲半導體制造中的金屬互連線的主要配套材料，市場規模也日益擴大，消耗量逐年增加，對超高純鋁靶材的需求量也將逐步增加。超高純鋁靶材也廣泛應用於平板顯示器以及太陽能電池領域，隨着OLED滲透率的逐步深入，大廠紛紛加入柔性變革中，全球持續加碼可再生能源，制定光伏裝機量鼓勵政策，以及進口靶材的免稅期於2018年年底結束，自2019年起，從日本、美國進口的靶材需要繳納關稅等相關政策，這些都將推動對超高純鋁靶材需求的持續增長。
應用於半導體芯片
面對更大的市場，日新月異的技術迭代，新疆衆和的研發技術人員還在緊鑼密鼓的持續開展着更深層次的研究，當前的超高純鋁靶基材制備技術不是終點，而是站在了新的起點上，需要不斷努力提升和改進，爲國產半導體產業的發展提供高性能材料，促進國家科技創新能力飛速發展。
